





AMC對當前的IC生產(chǎn)其潛在的污染比粒子污染要廣泛多,粒子污染控制只要確定粒徑及個數(shù)非阿,但對AMC控制而言种诫,除了受芯片線寬的縮小而變化外,并受工藝湾关、工藝設備烫饼、工藝材料及園片傳送系統(tǒng)等的影響,更有甚者用于某一工序的各種工藝材料(化學品试读、特種氣體等)在很多情況下其微量的分子對下一工序往往可能是污染物杠纵,而園片加工工序當前已多于3多個獨立工序,對AMC控制指標的確定更是復雜钩骇。IC生產(chǎn)對AMC的控制比藻,對不同的產(chǎn)品、不同的工藝倘屹、不同的工序及不同的工藝材料會有不同的要求银亲,對各種污染物質(zhì)的要求當前總的說法是控制在亞pptm~1pptm間。